《半導体等の歩留り向上!》 光エネルギーで高度な表面処理!SSP2003N

《半導体等の歩留り向上!》 光エネルギーで高度な表面処理!SSP2003N

光のエネルギーで《高度な表面改質》&《ドライ洗浄》!

集積度の高い先端技術製品の製造には、
超微細加工に適合する新しい技術が必要です。

短波長紫外線には、
固体表面の改質や洗浄に優れた能力があります。

紫外線とオゾンを使う光表面処理技術は、
今や《半導体・液晶表示素子》などの電子部品の
製品歩留りを向上させるには欠かせない新しい技術です。

しかも、溶剤などを使用せずにドライに処理できるので、
《環境問題にも貢献する時代に適したクリーンな技術》です。



◎光表面処理技術のメリット
 ・大気中での処理が可能で扱いが容易
 ・ランプの形状や搬送の工夫により、
   様々な形状のワークに対応可能
 ・他の処理方法に比べ平滑性を損なわずに接着性の向上が可能
 ・低ランニングコスト

◎用途・実施例
 ☆樹脂
  ・各種表面のぬれ性改善目的
  ・各種材料への接着剤、塗料、コーティング材との密着力向上
  ・各種自動車部品への前処理用途
  ・フィルム材料、積層材料への前処理用途
  ・各種基盤材料前処理用途
  ・メッキ前処理用途
  ・蒸着前処理用途
  ・絶縁材料塗布前処理用途

 ☆金属・ガラス等
  ・各種表面のぬれ性改善用途
  ・各種表面の洗浄用途
  ・レジストの光アッシング用途
  ・ワイヤーボンティング前処理用途
  ・メッキ前処理用途

☆テストピースをお送りいただければ、簡単に効果を確認致します!ぜひご相談ください!
☆詳しい内容を知りたい場合はカタログ請求をご活用ください!


↓↓ 本ページでの商品紹介 ↓↓

【卓上型光表面処理装置 SSP2003N】
(光源面寸法350×320mmの片側開き扉式装置)

☆SSP16-110やSSP17-110に比べ、
 より大きなワークに適した卓上型実験機!

☆少量生産用の生産機としても使用可能!

☆片側開き扉で照射距離5-150mmの範囲で調整可能!

☆別置き電源とブロワが付属!

☆ダンパでオゾン濃度を調節可能!

※リンク先は、SSP2003Nより小さ目の実験機、SSP16-110へのリンクとなります。

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セン特殊光源株式会社事業所概要詳細
所在地

大阪府豊中市

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