真空・カーボン加熱炉システムの開発・設計支援サービス

私は、古河電気工業（株）のコーポレートの生産技術開発部門に26年間所属し、5年間生産技術開発センター長を務めました。古河電工の4事業すべての量産装置・検査装置の開発に関与しました。
光ファイバの製造プロセスの開発と製造装置の開発を20年以上行ってきました。社内の光ファイバ開発のPJにも参加し、古河電工の光ファイバの製造装置のほぼ全ての開発に関与しました。
光ファイバは、石英の粒子を合成し屈折率分布を持たせて堆積させた多孔質体（スート）合成工程、脱水・ガラス化工程、延伸工程、クラッド合成工程、クラッド脱水・ガラス化工程、線引工程により光ファイバ素線が製造されます。
カーボン炉は、脱水・ガラス化工程と線引工程で使われています。脱水工程は1200℃以下ですがハロゲン雰囲気で熱処理を行います。線引工程は2300℃程度まで加熱し石英ガラス製のプロフォームをφ125μmまで細らせて被覆を2層行って巻き取ります。
私が考えるカーボン加熱炉の設計内容は以下です。
１．炉体設計：板厚設計、水冷ジャケット方式、溶接の設計
２．真空引排気システム設計：到達真空度、排気時間、真空機器選定
３．ヒータ・トランス設計：カーボンジータの抵抗値設計、トランスの容量設計、熱計算
４．水冷ジャケットの流路設計：寿命や水漏れ対策のための設計
５．運転モード設計：運転モード、真空引排気モードなど
カーボン炉は高真空用途でも使われます。
私は、化合物半導体のエピタキシャル成長装置の開発の経験もあり、高真空の設計などの知見も持っています。
カーボン加熱炉を光ファイバの量産装置として30年以上使用している実績があります。使用上の問題点や注意点も理解しています。
カーボン加熱炉は、カーボン繊維の製造やSiやSiCの結晶成長炉としても使われています。

カーボン炉を開発・設計する際にお困りなことがありましたお気軽に相談ください。

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